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        滲碳工藝過程氣氛監測解決方案

        滲碳工藝過程氣氛監測解決方案

          采用武漢華敏研發的“多點分布式,實時在線檢測分析”架構,每臺主爐配備一臺氣氛監測單元,監測單元為工業防護標準的模塊化結構, 直接安裝在爐體旁,從原設備上的取氣...

        方案介紹

          “多點分布式,實時在線檢測分析”架構,多臺設備能做到實時、連續、在線高溫檢測各路氣氛,并同時在中央分析儀上顯示。除了采集傳統的氧電勢和爐溫,系統同時取樣分析爐內CO、CO2、CH4氣氛,用于爐況的診斷。除此之外,系統引用測量得到的CO和CO2值進行氣氛法的碳勢計算,與氧探頭法碳勢相互比對,對氧探頭的當前工作狀況實施準確客觀的“第三方”監測,滿足CQI-9標準對氣氛驗證的要求。

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        方案優勢

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        “黑匣子”氣體分析單元核心特色
        CO、CO2、CH4用半導體激光光譜吸收技術(TDLAS)原理,TDLAS本質上是一種光譜吸收技術,通過分析激光被氣體分子選擇性吸收來獲得氣體的濃度。它與傳統紅外光譜吸收技術的不同之處在于,半導體激光光譜寬度遠小于氣體吸收譜線的展寬(半導體激光光譜原理圖)。因此,半導體激光吸收光譜技術是一種高分辨率的光譜吸收技術。系統采用特定波長的激光束穿過被測氣體,激光強度的衰減與氣體的濃度有一定的關系,因此可以通過檢測激光強度衰減信息的分析獲得被測氣體的濃度。
        采用半導體激光光譜吸收技術的激光氣體分析儀可從原理上抗背景氣體的干擾,測量結果可靠性高。

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